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光刻胶成分分析
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项目简介
项目介绍
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。光刻胶成分分析是运用科学方法分析产品的成分,并对各个成分进行定性定量,对现有产品配方进行改进,升级优化,提高研发进度,减少研发成本。
适用范围
PCB光刻胶、 面板光刻胶 、 半导体光刻胶等
可能用到的仪器设备
气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)
液相色谱-质谱联用仪(LC-MS)
高分辨液相色谱-质谱联用仪(LC-MS-MS)
液体核磁(NMR)
裂解气相色谱质谱联用(PY-GC-MS)
X射线荧光光谱分析仪(XRF)等
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样品要求
建议送样10g~20g左右样品,如果无法提供足量的样品,极限送样要求2g左右,样本较少可能会影响分析的结果!
常见问题
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1. 注意事项
1)由于分析仪器检测限和方法的局限性因素、原材料纯度、牌号、相互之间的反应性等影响,某些低含量组分可能无法完全分析出来,如有特别要求,请在分析目的与要求中备注。
2)对于聚合物或树脂部分有结构解析要求,请在分析目的与要求中备注。