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      CP截面抛光仪/氩离子抛光仪(测试)

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      项目简介

      氩离子抛光技术/离子研磨CP(Cross section Polisher)用于SEM、EPMA、EBSD等样品的制备。依靠离子束轰击制备样品剖面,可以获得表面平滑的样品,观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料,而不会对样品造成机械损害。去除损伤层,从而得到高质量样品。而机械研磨抛光制备出来的样品表面粗糙不平、坑坑洼洼、划痕损伤多、界限不清。

      相比较下氩离子抛光/CP截面抛光的优点:

      (1)对由硬材料和软材料组成的复合材料样品, 能够很精细地制作软硬接合部的截面, 而使用传统方法制样是很困难的。

      (2)比FIB方法的抛光面积更大(~1mm以上)

      针对不同的样品的硬度,设置不同的电压、电流、离子枪的角度、离子束窗口,控制氩离子作用的深度、强度、角度、这样较精准的参数,有利于制备成研究者理想的材料样品,这样的样品不仅表面光滑无损伤,而且还原材料内部的真实结构。

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      结果展示

      以下为CP截面抛光处理后的样品拍摄的SEM图片

      1. 锂电正极

       

      2. 电池隔膜

       

      3. 正极颗粒

       

           

      样品要求

      1. 样品状态:粉末,块状,薄膜;

      2. 粉末样品要求:500mg以上,体积1ml以上;

      3. 截面制备样品要求:长宽厚小于20*20*10mm,如样品可剪裁可大一些;

      4. 平面抛光样品要求:以待抛光区域为中心点,样品直径不超过25mm、厚度0~20mm,(超出部分需要磨平);

      5. 样品本身要求:无毒,无放射性,无污染,成分稳定不易挥发,易氧化吸水的需要真空保存,需要特殊位置切割的请附件说明,基于电镜分辨率限制,样品颗粒需要≥100nm才能观察。

      6. 送样前需要对样品进行预处理:样品预磨抛,样品要磨平,样品的上下表面要平行,样品抛光面至少用4000目砂纸磨平,在显微镜下看起来光滑,不粗糙。

      常见问题

      1. 如何判断需要冷台?

      熔点较低,30-80℃容易变形、融化、收缩的样品需要冷台。(室温条件下常规切割,样品表面温度能达到50℃以上,并随着切割时间增加而增加)

      2. 粉末样品如何进行切割?

      粉末是包埋后使用铝箔固定再进行切割,包埋剂有两种,分别是AB胶型环氧树脂(主要成分C)和银浆溶液(主要成分是Ag),一般样品成分原子序数较小(多数是碳)选用银浆溶液包埋,原子序数大的会选用AB胶型环氧树脂进行包埋,尤其需要元素分析的时候需要选择合适的包埋剂,尽量避免元素影响。

      3. 铝箔纸的作用?

      固定样品和防止切割过程造成样品污染。铝箔纸不会对样品形貌和元素组成造成影响,图片拍摄和元素检测过程可以规避铝箔纸,也可以直接将铝箔纸揭下来。

                                                         铝箔纸和样品位置

      4. 包埋剂的影响?

      包埋剂不会影响粉末颗粒的细微形貌,AB胶型环氧树脂包埋剂会填充缝隙和空心区域,Ag浆溶液会在颗粒周围形成包覆膜包裹样品,并不会和样品发生化学反应,影响形貌。

                            AB胶型环氧树脂填充缝隙                                                   银浆溶液包覆样品

       

       

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