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光刻胶成分分析
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项目简介
项目介绍
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。光刻胶成分分析是运用科学方法分析产品的成分，并对各个成分进行定性定量，对现有产品配方进行改进，升级优化，提高研发进度，减少研发成本。
适用范围
PCB光刻胶、 面板光刻胶 、 半导体光刻胶等
可能用到的仪器设备
气相色谱-质谱联用仪（GC-MS）
液相色谱-质谱联用仪（LC-MS）
高分辨液相色谱-质谱联用仪（LC-MS-MS）
液体核磁（NMR）
裂解气相色谱质谱联用（PY-GC-MS）
X射线荧光光谱分析仪（XRF）等
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样品要求
建议送样10g~20g左右样品，如果无法提供足量的样品，极限送样要求2g左右，样本较少可能会影响分析的结果！
常见问题
1. 注意事项
1）由于分析仪器检测限和方法的局限性因素、原材料纯度、牌号、相互之间的反应性等影响，某些低含量组分可能无法完全分析出来，如有特别要求，请在分析目的与要求中备注。
2）对于聚合物或树脂部分有结构解析要求，请在分析目的与要求中备注。
