原位近常压X射线光电子能谱仪(NAP-XPS)
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仪器型号
Proven-X NAP
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项目简介
原位近常压X射线光电子能谱(NAP-XPS)是一种在接近实际工作条件(如常压或特定气氛)下进行的表面分析技术。它利用X射线激发样品表面,使原子或分子发射光电子,通过检测光电子的能量和数量,分析样品表面的元素组成、化学态及表面反应过程。揭示表面反应机制、吸附/脱附过程以及催化剂活性位点的动态行为。
主要应用以下几个方面:
1、催化研究:用于研究催化剂在反应条件下的表面化学变化,揭示活性位点的动态行为;
2、能源材料:分析电池电极材料在充放电过程中的表面化学变化,研究其失效机制;
3、表面研究:研究材料表面在不同气氛下的吸附/脱附过程,分析表面污染和氧化层;
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样品要求
1、可接绝缘样品,粉末,液体,气体,生物分子,粉末大于5mg、块体薄膜不超过10mm*10mm*3mm;
2、液体干燥制样,不可测试含氟、氯、溴、碘等易挥发成分的样品;
3、测试范围:光照,高温(不超过800℃),气氛,电化学XPS测试;