【摘要】 这是因为它们可以提供比光学显微镜更高的空间分辨率。
纳米技术的发展产生了纳米级别的各种类型的材料。随着纳米技术的快速发展,纳米材料超微结构的可视化也引起了基础研究和技术应用的极大兴趣。为了确定材料的衍射受限结构,电子显微镜(EM)或扫描探针技术,如原子力显微镜(AFM)和扫描隧道显微镜(STM),已被广泛应用。
这是因为它们可以提供比光学显微镜更高的空间分辨率。尽管有这一优势,但由于这些技术的低分子特异性,它们对详细的表面化学成分的检测受到了限制。上述成像技术包括EM和STM对超高真空系统的要求限制了高通量成像。这一困难可以通过光学显微镜来克服,它可以在不需要真空系统的情况下进行分子特异性成像。
虽然光学显微镜受到光固有衍射的影响,但近十年来,超分辨率荧光显微镜(SRM)技术的发展使光学显微镜的分辨率大大提高到~10 nm。有研究者开发了一种新的荧光团标记方法,在高标记密度的硅基材料上实现在硅晶片上制作的硅图案阵列的硅或硅选择性超分辨率荧光图像[1]。
通过开发一种基于电荷效应的高密度选择性染料结合方法,可以在硅晶片上选择性地显示不同尺寸的硅或硅线图案。可以获得更高的标记密度和材料特异性,并且可以忽略非特异性结合,从而实现硅基纳米材料的超分辨率荧光成像。这种新的纳米材料成像方法有望推动计量工具和应用的进一步创新。
[1] Uidon Jeong, Dokyung Jeong, Seokran Go, et al. Development of Highly Dense Material-Specific Fluorophore Labeling Method on Silicon-Based Semiconductor Materials for Three-Dimensional Multicolor Super-Resolution Fluorescence Imaging[J]. Chem. Mater. 2023.
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