【摘要】 深度解析激光多普勒电泳法测定固体表面Zeta电位的关键影响因素,涵盖离子强度、pH值及示踪剂选择,对比流动电位技术验证实验策略。
固体表面Zeta电位测试原理与技术革新(图1A)
图1 流动电位的示意图(A)流动电位,施加界面电动学现象气压梯度,在两个电极上测量电位差; 以及 B)定常状态电渗透。在两个电极上施加电位差引起的电场会产生离子电流。流体速度剖面的示意图如下所示。从左到右: 电渗流,逆压流和净流速在封闭通道的情况下。在定常状态,净电流为零,即流动电流和泄漏电流总和为零,测得的电位差为流动电位 ΔVs = Ex/L。整个电流 i 是由两个驱动力的耦合影响引起的,即气压梯度、p和电场,它们根据相应的昂萨格互易关系相关联
当固体与水相接触时,界面处电荷分布不均形成电双层(EDL)。这一现象在电化学、胶体稳定性及微流体技术中至关重要。Zeta电位作为EDL剪切面的电势指标,是表征材料表面电荷的核心参数。传统测量依赖流动电位法(平面材料)和激光多普勒电泳(胶体颗粒),而新型电渗流绘图技术(EOFM)的出现,让单台设备兼容两类测试成为可能。
激光多普勒电泳法(LDE-PALS)的技术优势
新型商用仪器通过相位分析光散射(PALS)模式,结合低成本的浸渍池附件,实现宏观固体表面Zeta电位的高效测定。如图1B(alt="LDE-PALS电渗流绘图技术示意图")所示,该技术通过空间分辨电泳迁移率测量,精准分析表面反离子引发的电渗流,突破传统设备限制。
影响Zeta电位测定的四大关键因素
1.离子强度调控
电解质浓度直接影响EDL厚度,高离子强度压缩双电层,导致Zeta电位绝对值降低。实验表明,0.1 mM KCl溶液测得的硼硅玻璃Zeta电位为-45 mV,而浓度升至10 mM时降至-15 mV。
2.pH值适应性
溶液酸碱度通过改变表面羟基解离状态影响电荷分布。以二氧化硅为例,pH>2时表面带负电,Zeta电位随pH升高而趋负,但需注意示踪剂化学稳定性。
3.示踪剂化学性质匹配
聚苯乙烯微球(羧基修饰)与二氧化硅表面兼容性最佳,而氨基修饰粒子易因静电吸附导致数据偏差。建议根据材料表面电荷特性选择示踪剂。
4.粒径选择策略
小尺寸示踪剂(如200 nm)可提高空间分辨率,但信噪比低;大颗粒(1 μm)稳定性强但易受布朗运动干扰。推荐根据实验精度需求选择300-500 nm示踪剂。
实验验证:EOFM与流动电位法的数据对比
研究团队以硼硅玻璃为样本,在pH 7、10 mM NaCl条件下,EOFM法测得Zeta电位为-38.2±1.5 mV,与流动电位法结果(-36.8±2.1 mV)高度吻合(图3,alt="两种方法Zeta电位测定结果对比柱状图")。这表明优化后的测定策略在工业检测中具有可靠性。
操作优化建议
- 样品预处理:超声清洗去除表面污染物,避免电荷干扰
- 环境控制:25℃恒温减少热扰动对电渗流影响
- 数据校准:使用标准胶体溶液(如NIST SRM 1980)定期验证仪器
参考文献:1.Helena Mateos, Alessandra Valentini, Eric Robles, Anju Brooker, Nicola Cioffi, Gerardo Palazzo, Measurement of the zeta-potential of solid surfaces through Laser Doppler Electrophoresis of colloid tracer in a dip-cell: Survey of the effect of ionic strength, pH, tracer chemical nature and size, Colloids and Surfaces A: Physicochemical and Engineering Aspects, Volume 576, 2019, Pages 82-90, ISSN 0927-7757, https://doi.org/10.1016/j.colsurfa.2019.05.006.
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