【摘要】 本文详解透射EBSD技术在MgB2超导体表征中的应用,揭示775-950℃烧结过程中晶粒演化规律,提供晶界调控与通量钉扎优化方案,包含FIB制样方法及工业化生产参数建议。

作为新一代实用型超导材料,MgB2凭借其成本优势与易加工特性,在磁性轴承、超导联轴器及磁俘获系统等领域展现巨大应用潜力。本文通过透射电子背散射衍射技术(t-EBSD),系统解析不同烧结工艺对材料显微结构与超导性能的影响机制,为工业化生产提供关键数据支撑。

 

一、技术突破:透射EBSD在MgB2表征中的应用

传统EBSD技术受限于样品表面质量要求,在分析高密度MgB2块材时存在显著局限性。研究团队创新采用FIB-TEM联用方案(图1),通过聚焦离子束制备80nm级超薄样品,结合特殊样品支架实现70°倾斜条件下的透射模式检测。这种改良方法成功解决了晶界表征难题,在纳米颗粒掺杂体系分析中已获验证。

FIB制备MgB2透射EBSD样品显微形貌对比

图1 用FIB铣削法制备MgB2块状试样的TEM切片。插图显示了样本Sin775的一些细节。

 

二、烧结工艺与显微结构演化规律

实验选取775-950℃温度梯度制备样品,发现关键参数变化规律:

1.晶粒尺寸调控:800℃为临界转折点,低于此温度晶粒尺寸(GS)随温度升高缩减23%,高于时呈现反常增长趋势

2.晶界网络优化:775℃样品形成100nm级精细晶界,单位体积晶界长度提升47%,显著增强通量钉扎效应

3.致密化进程:当反应温度超过850℃时,孔隙率降至3%以下,但晶间连接度下降12%

SEM腔内t-EBSD样品支架安装示意图

图2 TEM切片样品夹在扫描电镜腔内的布置,倾斜- 20度,使检测器位置与标准EBSD相同。插图显示了定制的样品支架。

 

三、工业化生产指导建议

基于EBSD定量分析,推荐工艺控制要点:

  • 温度窗口控制:磁性轴承应用建议采用775-800℃低温烧结,磁俘获系统适用850℃中温工艺
  • 掺杂剂选择:氧化石墨烯掺杂可使晶界结合能提升18%,建议添加量控制在0.5-1.2wt%
  • 后处理优化:2KeV氩离子抛光可使表面损伤层厚度减少至15nm以下

 

四、技术展望

本研究建立的t-EBSD表征体系已实现三大突破:① 晶界取向解析精度达2° ② 最小特征尺寸检测能力突破50nm ③ 数据采集效率提升40%。该技术框架可拓展应用于其他脆性陶瓷材料体系分析,为新型超导材料研发提供标准化表征方案。

 

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