【摘要】 Erkan Z. Ciftlikli等在这项研究中，他们关注铜（001）中性氰的高表面温度脱附，不仅研究CN/表面结合，而且还表征CN（a）-CN（a）的相互作用。

氰化物是一种有效的配体和假卤素，具有与许多过渡金属形成离子化合物或络合物的强亲和力。氰化物在许多工业中有许多用途，特别是在采矿和电镀中。此外，由于氰化物与NO ￣和CO是等电子的，所以经常用于比较研究。因此，有很多兴趣在金属面上的氰化物表面结合的属性。

 

氰，C2 N2，经常发生解离吸附在金属面上。亲电子吸附的氰化物自由基（CN）容易从表面拾取电荷。电荷的转移，从表面到孤立的CN物种，被认为是高达0.7e-/CN的单晶表面。因此，产生的氰阴离子可以强烈的离子化学吸附。氰化物作为CN沉积手段的优点是仅沉积CN物质。相比之下，例如，在HCN暴露下，H的共沉积可能导致其他共吸附物种。

 

Erkan Z. Ciftlikli等[1]在这项研究中，他们关注铜（001）中性氰的高表面温度脱附，不仅研究CN/表面结合，而且还表征CN（a）-CN（a）的相互作用。互动。通过简单的化学考虑，在导电表面上的CN吸附物将拾取净负电荷。然而，在金属面上，如在密度泛函理论（DFT）广义梯度近似（GGA）计算中观察到的，离子结合的吸附物的显著筛选也导致在每个吸附物处定位的偶极子。

 

表面偶极子的相互排斥相互作用当然是覆盖依赖的;即任何一个离子结合部分的结合能应随覆盖度的增加而降低。虽然解吸活化能随着表面覆盖率的降低而增加，但表面覆盖率的活化能的确切依赖性不容易预测。表面迁移率，相对结合和相互作用能，以及在更高覆盖率的去极化的程度都发挥作用，在确定准确的覆盖率的热脱附能量的依赖性。

 

然而，这个吸附系统是一个预测一个中等到强覆盖依赖的热解吸能量，已被用来测试新的程序升温解吸（TPD）分析技术在这里介绍。

 

[1] Ciftlikli E Z , Lee E Y M , Lallo J ,et al.Implementation of New TPD Analysis Techniques in the Evaluation of Second Order Desorption Kinetics of Cyanogen from Cu(001)[J].Langmuir the Acs Journal of Surfaces & Colloids, 2010, 26(24):18742-9.

 

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